이번 포스팅에서 다룰 주제는 MOS Capacitor의 Energy Band Diagram입니다.MOS Capcitor의 구조는 MOS Capacitor에서 1번째 게시물을 참고해주세요. 우선, 아직 Junction이 이루어지지 않은 Metal / Oxide / Semi-Conductor의 Band Diagram을 각각 그려봅시다. 좌측에 보이는 것은 Heavy doping된 N+ Poly Si Gate입니다. Heavy doping 되었기 때문에 Metal과 거의 같다고 보시면 되고, Carrier가 많아서 Fermi Level(노란색, Ef)이 Conduction Band(검정색, Ec)와 일치합니다. 가운데에 보이는 Energy Band Diagram은 SiO2에 대한 Energy Band Diag..
MOS CAP은 MOSFET을 공부하기 전에 반드시 먼저 학습을 해야 하는 영역입니다.왜냐하면, MOS CAP에 Source, Drain만을 추가한 것이 MOSFET이 되기 때문이죠.(물론, Source/Drain과 Substrate는 PN Junction을 이루기 때문에 MOSFET 공부를 위해서는 PN Junction도 선행이 되어야 합니다.) PN Junction은 이미 공부가 끝났다는 가정하에 기본적인 MOS Capacitor부터 공부해봅시다. MOS Capacitor의 구조는 다음과 같습니다. 제일 위에 있는 Gate는 전자 회로 시간에 여러분이 죽어라 배우던 그 Gate와 동일합니다. 일반적으로 Gate로 사용되는 물질은 Metal 또는 heavy doping된 Poly-Si을 사용합니다. 그..
이번 포스팅에서는 PN Junction에 대해서 다루려고 합니다. 1. PN JUNCTION이란? PN Junction이란 것은 문자 그대로 P Type과 N Type의 반도체가 결합한 형태의 반도체 소자를 뜻합니다. PN junction을 만들 때는 위와 같은 형태로 만듭니다.P-Type Si 위에 Donor Ion을 Implantation이나 Thermal Diffusion을 통해 Doping하여 N-Type 반도체로 변하도록 합니다.그런 과정을 거치면 위와 같은 PN Junction이 만들어지게 됩니다. 2. Implantation이란? 간단하게 말씀드려서 총같은 것에 Ion을 장전하고 Doping하고자 하는 곳에 발사해서 ion을 어떤 기판 위에 때려박는 것이라 생각하시면 됩니다. 3. Therm..
잔인한 글이 될 수도 있겠지만 한 자 적어보고자 합니다.그렇지만, 다른 사람들 인적성 붙었을 때 혼자 떨어지는 기분보다는 덜 잔인할 거에요. 인적성에 떨어지신 분, 당신이 인적성에서 떨어지는 이유는 어찌보면 당연합니다.아래 통계를 봐주세요. 아래 통계는 제 블로그에 있는 인적성 공부하는 법이라는 글의 월별 통계입니다. 조금만 보시면 아시겠지만 동일한 통계를 그립니다.공채가 끝난 6월/12월에 최저점을 찍고 7월/2월부터 상승하기 시작합니다.그리고 각각 10월/4월에 최고점을 찍습니다. 이게 무엇을 알려줄까요?제 블로그에 방문하는 분들 중, 많은 분들께서 인적성이 몰려있는 10월/4월부터 인적성을 준비한다는 것입니다. 원래부터 인적성을 잘하시는 분들은, 저 때 공부를 해도 하나도 우려하실 것이 없습니다. ..